​渤海湾围捕“大黑鱼”，日照港击落不明飞行物

渤海湾围捕“大黑鱼”，日照港击落不明飞行物。

不得不说，最近这两件事情，咱们办得是真漂亮。

与此同时，在国人群体意识兴奋高涨之际，前方还有另一条好消息传来：上海微电子生产的首台2.5D/3D先进封装光刻机顺利交付并正式投入使用。

上海微电子以每台1800万元的价格，卖了2台给昆山同兴达，一家专注芯片封测技术的公司 。有一说一，中国人不骗中国人，这个价格真不贵。

当然，很多朋友会感到奇怪：封测光刻机是何物？

按光刻机的用途来划分的话，光刻机分为前道光刻机和后道光刻机。顾名思义，前道光刻机用于前端环节——制造，后道光刻机光刻机用于后端环节——封测。

后道封测光刻机，作用是在芯片分离封装过程中，测试流程，提升芯片后道制造良率。所以，相比前道制造光刻机，后道封测光刻机，所需的技术含量并不太高。

但是，这并不意味着上海微电子生产的首台2.5D/3D先进封装光刻机非常鸡肋。

首先，当“国产”和“光刻机”这个词组合在一起时，就已经足够大家兴奋一阵了。虽然技术含量不高，那也是在相对的语境下，毕竟技术是用来升级突破的。

更何况，在封测光刻机领域中，这台2.5D/3D先进封装光刻机，已然是所有竞品中的“佼佼者”。上海微电子更是称其——“代表了行业同类产品的最高水平”。

据悉，它能够用于2.5D/3D等超大芯片的先进封装形式，也可满足Bumping、RDL和TSV等制程的晶圆级光刻工艺需求。并且还具有高精度、高良率的特点。

所以，这台国产封装光刻机，是上海微电子的一大步，也是自研光刻机领域的一大步。

当然，国产后道封测光刻机的突破固然令人心潮澎湃，但是我们也需要正视：我国与国际先进水平之间，前道制造光刻机的差距。

按光源先进程度划分，前道制造光刻机又能够分为EUV光刻机、DUV光刻机、UV光刻机、ArF、KrF……（排名依次由高到低）。

我们耳熟能详的光刻机，美国重点打击的光刻机，主要正是EUV光刻机、DUV光刻机。

EUV光刻机是当前突破3nm、5nm、7nm芯片制造的关键。

而DUV光刻机在多重曝光下，最高极限是生产10nm芯片。

EUV光刻机、DUV光刻机，又主要被荷兰ASML、日本佳能、日本尼康垄断。对了，这三家都活在“美国技术阴影”中。

我国目前最为紧缺的就是EUV光刻机，而这些设备基本上100%都在荷兰ASML手上。

图为光刻机行业发展趋势，图片源自方正证券2020年6月研报截图

值得一提的是，在上海微电子的光刻机家族谱系中，也有制造前道光刻机。

只不过……emmm……目前展示出的最先进的一款，分辨率也仅停留在90nm。

90nm和7nm之间的差别，不仅在于两位数和个位数，更是中美光刻机研发生产技术的10年差距。

所以，咱们现在的当务之急，就是将90nm后面坠着的零去掉，自研出国产高端前道制造光刻机。

而最有希望给大家带来好消息的正是这家上海微电子。毕竟，在2年前就曾有消息指向，其在短期内落地国产自研28nmDUV光刻机非常有戏。

现在看来，上海微电子也确实在半导体内兢兢业业，勤劳深耕。中国的光刻机短板能不能由上海微电子补齐？这，是大家共同的期盼的愿景。

打压、封锁、制裁，美国联合荷兰、日本，对中国高端芯片的研发生产布下天罗地网。因此，芯片问题一直是一块压在国人心头的巨石。这扼住命运后脖颈的滋味，真不好受。

而想要化解我国当前所面临的芯片缺口之难，最关键的一步是？——国产自研光刻机。

此前，美国只是限制荷兰ASML向我国出口高端EUV光刻机。

而后，美国步步紧逼，连DUV光刻机恐惨遭出口禁令影响。

没有光刻机，对于我国的芯片制造业，意味着什么？

黑马用一句话来形容的话——“巧妇难为无米之炊”。

没有光刻机，连中芯国际最新芯片技术——14nm芯片量产工艺制程，也会颇受影响。毕竟中芯国际要想实现14nm芯片量产，靠的还是ASML的DUV光刻机。

所以，国产自研光刻机的研发量产非常紧迫，那是箭在弦上，不得不发。芯片去美化，必须得从源头抓起，也就是从光刻机上实现跨越性突破，追平美国科技。

总而言之，国产封测光刻机再上一层楼，这个振奋人心的消息不仅在于其本身传达的字面信息，更在于其证明了：只要下功夫，中国自研光刻机还是能有未来。

中美这一场博弈，一步一步地走来，看来以后还会有更多国产惊喜。